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    碳化硅電力電子器件發(fā)展中的難題分析[ 05-18 16:25 ]
    1.碳化硅晶片的微管缺陷密度。微管是一種肉眼都可以看得見(jiàn)的宏觀缺陷,在碳化硅晶體生長(zhǎng)技術(shù)發(fā)展到能徹底消除微管缺陷之前,大功率電力電子器件就難以用碳化硅來(lái)制造。盡管優(yōu)質(zhì)晶片的微管密度已達(dá)到不超過(guò)15cm-2 的水平。但器件制造要求直徑超過(guò)100mm的碳化硅晶體,微管密度低于0.5cm-2 。 2.外延工藝效率低。碳化硅的氣相同質(zhì)外延一般要在1500℃以上的高溫下進(jìn)行。由于有升華的問(wèn)題,溫度不能太高,一般不能超過(guò)1800℃,因而生長(zhǎng)速率較低。液相外延溫度較低、速率較高,但產(chǎn)量較低。 3.摻雜工藝有特殊要求。如用擴(kuò)散
    碳化硅的四大應(yīng)用領(lǐng)域[ 05-16 10:52 ]
    碳化硅主要有四大應(yīng)用領(lǐng)域。
    國(guó)家嚴(yán)控環(huán)保 碳化硅企業(yè)面臨嚴(yán)峻挑戰(zhàn)[ 05-16 10:38 ]
    近兩年整體市場(chǎng)的調(diào)整性,造成一些中小型企業(yè)減產(chǎn)、停產(chǎn)。
    高性能半導(dǎo)體器件的新材料——碳化硅[ 05-15 16:06 ]
    近二十年來(lái)碳化硅半導(dǎo)體材料開(kāi)始被行內(nèi)人士重視.
    碳化硅在耐火材料方面的優(yōu)勢(shì)[ 05-13 16:16 ]
    通常碳化硅用作耐火材料的數(shù)量大于用作磨料。
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